光刻機9大分析

據集邦預測，2022年四季度，台積電將貢獻73%的EUV先進製程產能。 光刻機 “台經院”產經資料庫總監劉佩真還指出，今年9月台積電3納米步入量產階段後，在全球3納米製程已經獲得將近98%的市佔率。 台積電“吃乾抹淨”之後，三星的3納米製程才吃下剩餘的2%市場。 中國芯片製造，將不會再被外國卡脖子，中國自主研發出28納米光刻機，成功突破美國技術封鎖，改變中國光刻機技術，被外國卡脖子的局面，嚇得荷蘭光刻機製造商，不顧美國禁令，急忙降價賣給中國光刻機，還讓美國害怕不已，中國自主研發的光刻機究竟有多厲害？

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光刻機: 大陸豪華車市8月銷量首降 「缺芯」全年預估減產166.6萬輛

佳能將於2021 年3 月發售新型光刻機 “ FPA- 3030i5a ” ，該設備使用波長為 365 奈米的 “ i線 ” 光源，支援直徑從 2 英寸（約5 公分）到 8 英寸（約 20 公分）的小型印刷電路板。 解析度為 0.35 微米，更新了測量晶圓位置的構件和軟體。 佳能時隔 7 年更新了支援小型印刷電路板的半導體光刻機，提高生產效率。 在用於純電動汽車（EV）的功率半導體和用於物聯網的傳感器需求有望擴大的背景下，佳能推進支援多種半導體的產品戰略。

可見 IP 作為技術含量最高的價值節點，隨著晶片製程越來越先進，晶片價格的提升， IP 研發難度和授權費用也將隨之升高。 光刻機 半導體 光刻機 IP 是指在積體電路設計中那些已驗證、可複用、具有某種確定功能和自主智慧財產權功能的設計模組，晶片公司可以通過購買 IP 實現某個特定功能。 EDA 涵蓋了積體電路設計、驗證和仿真等所有流程，晶片的用途、規格、特性、製成工藝幾乎全都在這個階段完成。 利用 EDA 工具可設計得到極其複雜的電路圖，從而製造出功能強大的晶片。

光刻機: 國產28nm光刻機已經完成認證

機器的構造基本就是透過光刻機以一個光速發射光脈衝，鐳射器將光能轉化為可檢測的能量然後轉化為電能。 在不同波長光源的作用下，一個物質原子被分解成兩個不同的原子，然後再重新組合起來形成物質。 鐵三角宣佈，推出ATH-M50xSTS和ATH-M50xSTS-USB，這是全球首款專門為了滿足直播內容創作者需求開發的耳機。 據中國電信集團內部消息，推薦曾衞民擔任天翼雲科技有限公司副總經理。

改革開放以前，我國光刻機的發展的確即將接近美國水平，改革開放後，中國面向全球開啟市場，海外的各種高科技產品趁機湧入。 Imec 高級圖案化項目總監 Kurt Ronse 光刻機 在接受Semiengineering時表示，由High NA EUV 圖案化的第一層可能具有相對寬松的尺寸，約為 28nm。 Erdmann 指出，目前使用的鉭基吸收體(tantalum-based absorber)的光學特性相對較差。 降低吸收體的折射率將改善劑量-尺寸特性，在恆定曝光劑量下實現更小的特徵。 但EUV光刻機又幾乎逼近物理學、材料學以及精密製造的極限。 光源功率要求極高，透鏡和反射鏡系統也極致精密，還需要真空環境，配套的抗蝕劑和防護膜的良品率也不高。

光刻機: 兩岸快遞/ 華為徵才縮手 傳喊停校園招聘

其實曾衞民是浙江電信內部較為知名的“得力干將”，其年初剛從寧波電信總經理調任天翼雲科技有限公司浙江分公司副總經理，這也難怪此次他能夠升任天翼雲公司副總經理，看來早已埋下了伏筆。 沒完沒了的COVID-19持續變種，新變種XBB1.5目前正在國際蔓延當中，而「揉眼睛」也屬於感染媒介之一；據了解，人類平均每小時揉7.2次眼睛，而眼睛本身就存有ACE2接收器，更是COVID-19最喜歡的天菜。 對此，醫師就提醒若亂揉眼睛，可能會增加感染風險，認為若要防疫就也要預防「揉眼睛」舉動。 （路透印尼茂物9日電）馬來西亞新任首相安華訪問印尼，會見印尼總統佐科威後，這兩個全球最大棕櫚油生產國今天同意攜手合作，對抗這項商品遭「歧視」的問題。 此外，其他與 EUV 相關技術也在研究中，例如 pellicles。 當年為了嘗試突破193奈米，英特爾更傾向於激進的EUV方案，於是早在1997年，就攢起了一個叫EUV LLC的聯盟。

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光刻機: 文章分類

Nikon 的主要顧客是生產微處理器的英特爾，這些產品都是很複雜的設計。 最終功能除錯是英特爾自己做，但規格很窄，導致前段各種設備包括光刻機製作條件都要嚴絲合縫設計裝配，且針對很多個別要求的產品，相同光刻機無法通用，就阻礙光刻機設計模組化。 半導體製程的光刻機為用一塊極精細圖案的玻璃底板，透過高性能的縮小成像鏡頭，對塗有感光材料的矽片進行強烈雷射照射的自動化曝光設備。 除了 ASML，目前世界上其他比較先進的光刻機廠商分別是日本的 Nikon 和佳能。 光刻機 從目前 Nikon 的官網上可以看到 Nikon 最先進的曝光機型號為 光刻機 NSR-S635E。 最後，ASML 同意在美國建立一所工廠和一個研發中心，以此滿足所有美國本土的產能需求。

要知道，韓國在半導體領域的實力也是不弱的，特別是在晶片研發方面，早在2019年的時候，韓國三星就憑藉著5376件發明專利位居世界第一，除了三星之外，排名領先的韓國企業還有LG、SK海力士等等。 到時候，阿斯麥爾的EUV光刻機將不會再這樣重要，到時候，阿斯麥爾還是很有可能會流失我國這個具有龐大發展潛力的市場，影響阿斯麥爾的經濟收益。 時間的鐘擺不停地搖動，轉瞬之間，又到了一年的畢業求職季。 趁著這個時候，中科院也放出了招聘公告，而且還是EUV光刻機的多個領域。

光刻機: 新聞雲APP週週躺著抽

而根據日本的二手晶片製造設備交易商表示，由於需求的上漲，去年舊款設備的價格因此也漲價漲了兩成。 根據日經新聞報導，去年受到疫情的影響，反而讓晶片的需求激增。 在這個情況下，中國各地紛紛冒出許多「芯片企業」宣稱要芯片救國，但是結果就是有許多騙子從中撈了一筆，例如武漢弘芯。

據《多維新聞》報導，由大陸的中國國際商會、北京大學國發院、北大新結構經濟學研究院共同舉辦2021年中國企業未來發展論壇上，北大國發院名譽院長林毅夫在演講時表示，光刻機龍頭企業艾司摩爾（ASML）的總裁兼執行長彼得． 溫尼克表示，現在ASML的光刻機禁止出售給大陸，但該公司的前景令他極為憂心。 先進集成電路大規模生產線的投資可達100億美元，75%以上是半導體設備投資。 以芯片制作為例，在芯片制造的前道工藝環節，一般佔整個芯片總投入比重的70%以上。

光刻機: 中國晶片為何難以跳出困境？

晶片設計包含電路設計、版圖設計和光罩製作等，需要考慮多方面因素和知識結構。 以大家較為熟悉的 5G SoC 為例，產業廠商能夠集成自研的獨立 AI 處理單元 APU，多模通訊基頻、相機 ISP、各種控制開關、微核等多個自研模組。 這部分成本很難具體估算，屬於長期的研發成果，但投入力度從人力成本中可見一斑。 好在在這個情況下，我國的政策鼓勵國內企業造芯，國內的企業也終於意識到了將晶片研發技術掌握在自己手中的重要性。 先進製程客戶拉貨動能強勁，舊有機台軟體升級需求超出預期，帶動毛利率上揚。 記憶晶片主要可分為非揮發性的快閃記憶體及揮發性的動態隨機記憶體，智慧型手機及個人電腦發展持續推動記憶體需求上升，AI 運算與機器學習的興起，也使得記憶晶片在伺服器高速數據傳輸中日益重要。

就這項產品而言，美國確實已經成功揪集了一個「反中聯盟」。 《華爾街日報》報導指稱，英特爾、三星電子和台積電（TSM）等公司都在使用這種重達180 噸的大型機器，用於製造提供給頂尖智慧型手機、5G設備、AI電腦使用的晶片，而ASML一直沒有發貨給中國，是因為荷蘭在美國的壓力下，扣留了出口許可證。 按照台積電（ 2330-TW 光刻機 ）、三星（ 5007-TW ）的說法，可見，先進晶片的燒錢遊戲正在加速。

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它雖然地處荷蘭，但當年是由韓國三星和美國英特爾出資支持的，研究生產中使用了美國CYMER的光源、英國愛德華的真空系統、德國蔡司的光學系統、柏林格拉斯的靜電吸盤等等。 如此昂貴的價格，中芯國際仍然求購，就是因為拿到這批光刻機之後，中國大陸的本土晶片製造能邁上一個新的台階。 2008年，我國才生產出來第一台自主研發的光刻機，規格只有0.65微米，相當於650納米，而同時期的荷蘭阿斯麥爾光刻機規格已經來到了45納米。 我國並不是沒有自研光刻機的能力，只是由於建國之後，西方各國一直對我國封鎖相應的技術工藝，我國只能在一片黑暗中自行摸索，製造水平相對落後，製造出來的光刻機所能加工的精細程度，也跟荷蘭阿斯麥爾有極大差距。 這些代工廠接到訂單之後，就會按照客戶的晶片設計，使用光刻機來進行製造，製造出來的成品再交付給客戶，由客戶組裝成手機。 據了解，華卓精科公司的控股股東、實際控制人朱煜為清華大學長聘教授，朱煜同時為大陸科技部重點領域創新團隊負責人及國家02科技重大專項技術副總師。

• 短短四年，就將昔日光刻機大國美國拉下馬，與舊王者GCA平起平坐，拿下三成市場市占。
• 如果想要保持領先中國，「必須在創新上領先，這一點必須要加快速度」。
• 在經過中國科研人員，數十年如一日堅持不懈的努力之下，最近 上海微電子公司，終於研發出來光刻機。
• 面對晶片卡脖子問題，華為近期公開新極紫外光（EUV）光刻新技術專利。
• 2019年7月，荷蘭首相Mark Rutte訪問美國，美國白宮高級官員向他展示了一份情報報告，內容是所謂大陸獲得光刻機的可能後果。

而極紫外光刻機（EUV）主要用於生產7奈米及更先進製程的晶片，目前全球只有荷蘭大廠ASML（艾司摩爾）有能力生產。 由於美國對華為等中國業者祭出出口管制，ASML遭到美國的壓力，已停止向中國晶片業者供貨，若買不到EUV，中國晶片製造廠在相當長時間內將只能停留在12或14奈米製程。 曾在美國英特爾工作的大陸知名科技專家、中國工程院院士、中芯國際技術研發副總裁吳漢明曾表示，一個國家單獨來做一部光刻機，這是不現實的想法。

光刻機: 晶圓代工成本

同時還需要在光掩模、光刻膠疊層和圖案轉移工藝等方面齊頭並進，才能讓新設備應用成為可能。 據ASML公司的Mike Lercel介紹 ，以典型的5nm工藝為例，2021 年的邏輯值是 10 層以上 EUV 層，到2023 年的3nm將會有20層的EUV層，而DRAM 目前的EUV層使用量約為 5 層。 Mike Lercel還談到了未來 DRAM 曝光的展望，他指出，不就之後DRAM上有大約會有 8 個關鍵層，最終其中一些層可能需要多重圖案化，使每個晶圓的 EUV 曝光達到 10 層。 2009年，美國的Cymer公司研發出EUV所需的大功率光源，成為艾司摩爾的供應商，更在四年後以25億美元高價直接被併購。

光刻機: 晶片製造精度要求頭髮絲的千分之一，這還不算難的！

一個更能穩定供應的電力基礎設施，也是未來半導體產業競爭背後不可或缺的力量。 最後發現，每種情況的節電率分別為 1.39%（2951.02MWh）、0.25%（520.57MWh）、0.22%（460.93MWh）、1.91%（4044.59）和 3.68%（7796.05MWh）。 據台灣科技媒體《數位時代》報導，目前台積電EUV裝置已超過80台，預估到2022年底可達到84台。 這一數量，還是遙遙領先於緊隨其後的三星——三星電子預估到今年底可望達到51台EUV，不過其中很大比例的EUV必須供DRAM廠使用，且三星在3納米製程市佔率較低，EUV的產能利用率也不如台積電。 有了這樣強硬的態度之後，美國就打算和荷蘭進行新一輪的溝通，並且大有加大施加壓力力度的打算，目的就是為了阻止半導體裝置製造商阿斯麥往中國市場上出貨。 但我們始終相信，最終上海微電子公司能夠研製出屬於中國的核心技術，打破外國核心技術壟斷，帶領中國光刻機產業走向國際。

光刻機: 中芯將於第四季試產 7 奈米，稱不用 EUV

在產品叠代方面，全球首台EUV 光刻機 3600D 系統交付客戶，該機型將比前代3400C 機型提高18% 生產效率，有助於提高晶圓廠產能，預計下半年出貨EUV 機台主要為 3600D 機型。 2021年受產能限制影響，預估ASML全年EUV 出貨數為 39 台，2022年產能瓶頸逐漸消除後，全年出貨有望達到 52 台(YoY +33%)。 ASML掌握100% EUV市場份額，擁有同業難以企及的光刻技術，未來五年將完全享有EUV領域發展帶來的營收挹注。

所以目前無論是 Nikon 還是佳能都無法對 ASML 構成威脅。 這些實驗室是美國科技發展的幕後英雄，他們之前的研究成果覆蓋了物理、化學、製造業、半導體產業的各種前沿方向，有核武器、超級電腦、國家點火裝置，甚至還有二十多種新發現的化學元素。 晶片雖小，製造難度卻很大，而這一過程中一個關鍵的機器——曝光機的製造成為了一大難題。 晶片之於曝光機，就如同人和大腦的關係，但縱覽幾十年全球曝光機產業的發展卻表現的差強人意，呈現出了唯有荷蘭 ASML 「一家獨大」的局面。 2018年11月29日，國家重大科研裝備研製項目“超分辨光刻裝備研製”通過驗收。 該光刻機由中國科學院光電技術研究所研製，光刻分辨力達到22納米，結合雙重曝光技術後，未來還可用於製造10納米級別的芯片。

光刻機: 陸光刻機第一股「華卓精科」獲批　核心技術未提「光刻機」才過關

同時，荷蘭政府的確向ASML發放了出口許可證，美國立即盯上了這筆交易，接下來的幾個月裡，美方官員至少4次與荷蘭官員開會，討論可否直接封殺這筆交易。 儘管有技術，但光刻機製造不易，因其內部零組件超過10萬多個，需要龐大供應鏈配合，這恐怕是陸方要自製光刻機的一大阻礙。 不過ASML能一家獨大少不了臺積電、三星和英特爾的支持。 根據2020年三季度ASML公司財報顯示，阿斯麥第三季度淨銷售額爲39.58億歐元，相較第二季度（33.26億歐元）增加6.32億歐元，共交付60臺光刻機。 值得一提的是，國内光刻機概念板塊中的成份股絕大數只是涉足光刻機零部件、其他種類的光刻機產業投資，並非具備制造芯片所需的光刻機的制造能力。 在芯片制造前道工藝之中，光刻、刻蝕、CVD工藝的步驟數量比例分别為1次、4次、2次。

光刻機: 光刻機

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