微電子光刻機9大伏位

另外，現在已經進入2021年，是否按照計劃完成了28奈米光刻機？ 當然，儘管在前道光刻機方面我們的差距還是很大，但上海微電子在後道光刻機上的實力可不弱。 在國內市場占到了80%左右的份額，在全球市場也占到40%份額。 萬物生長靠太陽，高階晶片的發展如今也只能依靠先進光刻機，可能會有種不一樣的聲音，不是有晶片堆疊，不是有晶片封裝嗎？ 如果12nm的芯片成功量產，那也就意味着我們離擺脫依賴國外進口芯片的局面更進一步。 與此同時我們也避免了被西方國家扼住脖子的風險，所以這款芯片和光刻機對於我們的意義是非同尋常的。

所以，基本上可以做實，上海微電子的確在做可以實現28納米制程的國產DUV光刻機。 二是知名媒體DIGITIMES曾報道，上海微電子有望在2021年四季度交付第二代深紫外光（DUV）光刻機，該裝置可實現28奈米工藝。 之前有網友爆料，上海微電子將於2020年12月下線首臺採用ArF光源的SSA800/10W光刻機，這是一臺國產浸沒式 微電子光刻機 DUV 微電子光刻機 光刻機，可實現單次曝光28nm節點。 還是期待一下國內科技企業能早日攻克EUV光刻機的技術難點，爭取能儘早徹底解決晶片「卡脖子」的問題了。

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採用ArF光源的浸沒式DUV光刻機是目前全球使用最廣泛的光刻機，可以完成45nm-10nm製程的芯片製造，足以應付絕大部分使用場景，中國芯片製造受制於人的局面將得到根本性的改觀。 CINNO Research半導體事業部總經理Elvis Hsu表示，光刻機是半導體製造設備價格佔比最高的部分約25%至30%，其研發難點在於曝光光源、對準系統和透光鏡頭等技術的整合，以及龐大資金投入。 目前，中國技術領先的光刻機研製廠家是上海微電子，可以穩定生產90/65納米製造工藝的光刻機。 Peter Wennink在作上述表述同時還透露，阿斯麥尚未獲得向中國出口最先進光刻機的許可，但一些生產成熟製程的光刻機出口並不受限制。 目前全球光刻機龍頭為 ASML，此外，德國 SUSS、日本尼康、美國 Ultratech 等也具備較強實力。

但是 光刻機製造技術卻一直被美國把控，禁止對中國出口，而如今 中國自主研發出28納米光刻機，得知這一消息，荷蘭光刻機製造商阿斯麥公司，趕緊修改不向中國出口光刻機的條款，甚至大幅度降價向中國拋售光刻機。 其實 歸根結底還是美國的原因，光刻機的製造非常複雜，其中僅零部件就多達十萬個以上，這些原材料來自於全球五十多個國家。 阿斯麥公司甚至公開表示，即便是公開製造光刻機的圖紙，也不可能有人能夠製造出來。 而其中有不少零配件都是來自美國，美國雖然自己不能生產光刻機，但是阿斯麥公司光刻機的生產，還依賴着美國。

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特別在目前的國際大環境裏，不僅是給所有堅持自主研發企業的興奮劑，也是對外展示我們研發力量的鎮山虎。 微電子光刻機 在全球化的影響下，現在沒有一家科技企業能夠做到所有的產品都由自身提供。 ASML也是如此，儘管它掌握著全球頂尖的技術，產品使用的零部件也要有多個供應商提供。

上海微電子表示，當時已與多家客戶達成新一代先進封裝光刻機銷售協定，首台將於年內交付。 美國一直在遊說其合作夥伴，包括日本和荷蘭，收緊對中國出口用於製造半導體的設備。 彭博社不久前報導，荷蘭政府有意對半導體製造設備出口至中國祭出新的管制。 光刻機是生產大規模集成電路的核心裝置，其製造和維護均需要先進和強大的光學及電子工業基礎，世界上只有少數廠家掌握這種技術。 或者你可以這樣理解，在小型裝置中，需要更低製程的晶片，例如手機，因為空間有限，想要實現更好的效能，晶片就需要更加先進的生產工藝。 但是28奈米是成熟工藝，生產成本低，只要不追求極致效能的情況下，這種製程的晶片，其效能也夠用的，用來生產我們日常生活中的電子裝置是沒有問題的，例如電視、電視盒子、音響、電梯、空調、微波爐、冰箱、汽車等等。

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根據日媒的報道稱，近日ASML方面召開了財報電話會議，在財報電話會議上，ASML總裁溫寧克談到了當下的晶片短缺問題，其表示沒有任何跡象表明需求會放緩，晶片產能仍將嚴重短缺。 科益虹源這家公司的名字極少出現在公眾視野，但從官方披露的直言片語的信息還是不難看出，這是一家在中國半導體產業鏈上極其重要的公司。 不仅如此，工信部科技司也于2月公布了《全国集成电路标准化技术委员会筹建公示》。

1961年，美國GCA公司製造出了第一台曝光機，從此曝光成為晶片製造中最重要的環節。 在芯片制造的前道工藝環節中，最關鍵、市場規模最大的設備是光刻（光刻曝光）、刻蝕、薄膜沉積（CVD）三大領域。 美國一直在游說其合作夥伴，包括日本和荷蘭，收緊對中國出口用於製造半導體的設備。 彭博社不久前報道，荷蘭政府有意對半導體製造設備出口至中國祭出新的管制。

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而且美國硅谷的光刻機，幾乎全部都是從荷蘭進口的，阿斯麥的最大僱主是美國，美國對中國實施芯片制裁，阿斯麥自然要緊跟美國的步伐，禁止對中國出口光刻機。 在2018年的4月，中國曾向阿斯麥公司花1.2億訂購了一台EUV光刻機，而荷蘭政府同意了這個交易。 美國數次聯繫荷蘭，禁止阿斯麥公司賣給中國EUV光刻機，最終 荷蘭放棄了這筆大生意，不願意交付光刻機。 技術封鎖或許對別的國家來説，是滅頂之災，但是對於中國來説，所有打不倒中國的，都只會讓中國更加強大。 儘管 美國不讓其他國家，賣給中國高端刻光機，想用這樣的方式限制中國高新技術的發展。

今年2月，上海微電被美國商務部納入出口觀察清單，而周四被正式列入出口管制清單。 在晶片封測上，大陸有三大巨頭，分別是長蘇長電、通富微電、天水華天，這三大巨頭可以排進全球前10，目前能夠封測的晶片都達到了5nm，都是全球領先水平。 前道光刻機就是我們平時關注的光刻機，ASML的EUV光刻機，也是前道光刻機，用於把電路圖刻到矽晶圓上的，這才是我們最缺少的、急需突破的光刻機。 在晶片製造過程中，有兩種光刻機，一種叫做前道光刻機，一種叫做後道光刻機，對應的是晶片製造工藝流程中的前道工藝、後道工藝。

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而上面我們也提到了，上海微電子已經具備了ARF光刻機的量產能力，所以從佳能的業績大幅增長就可以看出，上海微電子的65奈米光刻機”破冰“也就在情理之中。 可能有的朋友會有點混亂，這是因為光刻機的解析度並不等於晶片製造工藝，事實上ASML的DUV光刻機最大解析度也只有38奈米，但是卻可以支援7奈米工藝晶片的製造。 換句話說，40%的DUV光刻機市場，ASML只能眼睜睜看著被競爭對手拿走，而這些競爭對手中，自然就包括了我們國產光刻機廠商上海微電子。

这也使得在IC前道光刻机市场，国产化率较低，国内的IC前道光刻机市场主要被ASML、尼康和佳能瓜分。 据上海微电子官网介绍，其主要生产 SSX600 微電子光刻機 和 SSX500 两个系列的光刻机。 ASML、佳能以及尼康是全球光刻机市场的主要供应商，其中 ASML 在高端市场一家独大并且垄断 EUV 光刻机。

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而與此同時發生的另一件事，雖然沒有像鴻蒙那樣引起巨大的關注，但重要性絲毫不弱於鴻蒙。 工商信息顯示，華為的全資子公司哈勃科技，在2021年6月2日完成了對光刻機光源廠商科益虹源的注資，持有其4.76%的股份。 對科益虹源的投資，意味著華為終於要向芯片製造王冠上的明珠——光刻機——發起進攻。

• 外國不願意賣給中國，那中國就自己造，自力更生這個詞早已深深刻進中國人的骨子裏，早在2008年，中國為研究光刻機，就成立了專項組織，還將光刻機項目，列為863重大科研計劃，由此 足以看出中國對光刻機的重視。
• 即便找到替代技術，可能也會嚴重影響光刻機的生產以及後續晶片製造環節。
• 一台高階曝光機的造價需要上億美元，甚至比一台波音的客機還要貴。
• ASML、佳能以及尼康是全球光刻机市场的主要供应商，其中 ASML 在高端市场一家独大并且垄断 EUV 光刻机。
• 雖然我國正舉全國之力在攻克半導體產業存在「卡脖子」的領域，但短時間内國產光刻機技術想追上阿斯麥、佳能及尼康等擁有十幾二十年技術沉澱的大廠，難度是不小的。
• [NOWnews今日新聞]總統蔡英文今（10）日上午接見德國國會自民黨國防、外交與人權委員會高階國會議員訪團時，感謝德國對台灣的重視及支持。

這也是光刻機巨頭之間較量決定成敗及市場佔有率的重要籌碼，亦是後來者能否實現「拐彎超車」或提升市場競爭力及話語權的關鍵。 在這幾大半導體設備市場中，絕大數領先的技術工藝被國外大廠掌握。 譬如，爐式設備、刻蝕設備、薄膜沉積設備市場中AMAT、TEL、LAM等國際大廠市場份額佔據過半，而國内能跟上步伐的僅有北方華創（爐式設備、刻蝕設備）跟沈陽拓荊（薄膜沉積設備）。 目前，整個信息產業如同倒金字塔形，底部每年約600億美元產值的半導體集成電路設備產業，支撐了每年超5,000億美元產值的半導體芯片產業和幾萬億美元的電子係統產業，最終支撐了幾十萬億美元的軟件、網絡、電商及大數據等信息產業。 隨着容器的快速發展，容器管理工具Kubernetes也應運而生，目前不僅百度、京東、阿里、Google等大公司在使用K8s，一些中小企業也開始把業務遷移到K8s中。 所以即便是世界出現問題，例如當下的疫情，甚至發生戰爭，對我們都不會有任何影響。

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其實，上海微電子完成這台2.5D\3D先進封裝光刻機和我們常常聽到的EUV光刻機、DUV光刻機並不是一個東西。 所以，儘管說一個國家很難在各個尖端技術上都做到領先世界，但我們要資金有資金、要人才有人才，好的政策方向也在不斷扶持鼓勵，輿論更是開足了馬力。 在這種良好土壤下，中國“晶片”向上生長的過程中唯獨稀缺時間而已，所以我們完全有理由相信晶片供應鏈能夠充分國產化。 其次是被忽視的日本企業尼康和佳能，很多人知道尼康和佳能在光學元器件方面享譽全球，但二者在中低端光刻機裝置領域也佔著一席之地。 從中可以看出，如今阿斯麥爾在全球市場的發展態勢其實並不樂觀，如今我國在EUV光刻機領域進一步實現了破冰，到時候未必就不會成為阿斯麥爾的競爭壓力和發展阻力，不利於阿斯麥爾的發展個進步。

雖然台積電已經掌握了5nm芯片工藝，但是一直無法擺脱美國的限制，製造的芯片十分依賴荷蘭ASML公司的光刻機。 對於芯片的製造，應該大部分人十分清楚，光刻機是不可或缺的核心設備。 美國之所以實施“芯片禁令”，主要是因為中國沒有適合的芯片代工廠商可以完成芯片的製造，只能依靠台積電這一代工廠商進行代工。

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現在說到光刻機，可能大部分朋友想到的都是EUV光刻機，畢竟EUV光刻機是近年來的熱門話題，而且很多朋友之所以開始瞭解光刻機，也是因為先了解到EUV光刻機。 [NOWnews今日新聞]2022台灣PGA巡迴賽表揚頒獎典禮在台北國賓飯店舉行，共有一百多位贊助廠商及貴賓出席此盛會，TPGA舉行2022台巡賽選手傑出成績表揚頒獎典禮，包括TPGA台巡賽丶Thre… 即時中心／游明哲報導為了避免網路遊戲成癮的問題，中國對於未成年玩遊戲的時間限制也越來越嚴格。

居於兩者中間位置的14奈米顯然成為了中堅力量，成為絕大多數中高端晶片的主要製程。 大陸的中國電子資訊產業發展研究院電子資訊研究所所長溫曉君在接受《環球網》訪問時表示，大陸半導體行業研判，28奈米將是100%國產晶片的新起點，儘管面臨著技術方面的難題，但已看到希望。 既然已經找到瞭阻礙國內半導體發展的原因，自然我們要想盡辦法去解決瞭，目前國傢也在聯合各大企業，共同去打造一條完全自主化的供應鏈，而光刻機作為首要攻克的目標，目前中科院也已經開始介入技術研發，各大高校研究所也已經行動瞭起來。 如今，隨著通信和光電子技術應用的發展，人們的生產生活及數字經濟的發展都已經離不開晶片了。 而作為製造晶片的最核心設備之一，光刻機就成為了困擾半導體產業及整個信息通信產業的「卡脖子」技術。 值得欣慰的是2019年5月初，首臺來自荷蘭ASML公司的EUV光刻機目前已經安全抵達中芯國際。

根据已有专利信息可知，长光所已经可以实现离轴光学系统、超高重频窄脉宽CO2激光器、极紫外光聚焦反射系统等光刻机子系统。 其分化出来的上海光机所在EUV核心的液滴锡靶领域取得了较大突破。 然而，DUV光刻机利用多重曝光技术制造7nm芯片，往往也意味着更高的成本。 当然，在浸润式光刻等技术的加持下，台积电也曾用DUV成功制造出第一代7nm芯片。 前段时间，中芯国际在梁孟松的带领下，用DUV经过多重曝光，实现了N+1工艺，相当于10nm级别，而N+2理论可达7nm级别。 DUV光刻机主要利用光的折射原理，在透镜和晶圆之间通过采用不同的介质，来改变光刻性能。

因為上海微電是中共光刻機產業的龍頭企業，美方此舉將重創中共先進光刻機產業，乃至芯片自給自足野心。 就在所有人都在為上海微電子的發展而努力的時候，上海積塔那邊又接到了一筆新的訂單，上海微電子一下子就拿到了四個新的測試裝置。 2020年對於中國半導體行業來說，是砥礪前行的一年，因為美國一紙禁令，必須使用EUV光刻機的華為5奈米晶片，麒麟9000無法生產，讓很多國人既氣憤又無奈。

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沒成想，中國在美國的高壓政策下，不但沒有自暴自棄，失去繼續發展的能力。 微電子光刻機 反而被激起了 絕處逢生的勇氣，繼續加大對光刻機的研究力度，同時 中國光刻機的研究速度，也令美國感到了害怕。 2016年 中國生產出90納米光刻機，而僅僅過了幾年，中國就研製出了28納米的光刻機，從90納米直接飛速發展到28納米。 可想而知，如果繼續按照這個速度發展下去，那麼超過阿斯麥也只是時間的問題了。